Machinaal Hoogglans Polijsten
Met een oppervlakteruwheid tot 0,02 µm (Micrometer)
Uitstraling is een belangrijk aspect voor het polijsten van platen, maar ook het technisch aspect is van groot belang. Met het polijsten kunnen wij een Oppervlakteruwheid behalen tot 0,02 µm (Micrometer). In de Semiconductor Industrie wordt vaak hoogglans gepolijste platen toegepast waarbij alles draait om een zeer lage oppervlakteruwheid en tegelijkertijd is het visuele uiterlijk ook van belang.
Onze machines kunnen zowel koudgewalste 2B platen polijsten, maar ook dikke warmgewalste 1D platen. Met name dit laatste is onderscheidend en vergt veel kennis en ervaring aangezien de oppervlakte van deze platen ruw zijn en veel oneffenheden bevatten.
Tijdens een intensief voorslijpbewerking wordt de walshuid en oneffenheden weggeslepen en het oppervlak afgevlakt. Na deze voorbewerking wordt de plaat machinaal gepolijst naar een perfect hoogwaardige spiegelplaat volgens de specificaties van de klant.
Specificatie polijst kwaliteiten
Mirror 7 Nette hoogglans gepolijste spiegelplaat, maar nog lichte polijstsporen/hairlines zichtbaar.
Mirror 8 – Super Mirror 8 Zeer hoge kwaliteit die vergelijkbaar is met een spiegel. Hierbij zijn geen polijstsporen/hairlines zichtbaar. Dit leveren wij uitsluitend inclusief materiaal aangezien het basismateriaal van perfecte kwaliteit dient te zijn.
Afb. 1 Machinaal hoogglans polijsten.